国产成人亚洲精品无码青app,白丝紧致爆乳自慰喷水,国产疯狂女同互磨高潮在线观看,jizzjizz少妇亚洲水多

利用原子力顯微鏡和橢圓偏振光譜儀，研究了不同退火溫度下深紫外（ＤＵＶ）輔助高壓處理對溶液旋涂法制備的非晶ＩＧＺＯ薄膜微觀結構與光學特性的影響。實驗結果表明，通過ＤＵＶ輔助高壓退火處理，當退火溫度從２１０℃升高至３００℃，薄膜的光學帶隙由２．９７ｅＶ 升至３．３２ｅＶ，而膜表面粗糙層從２２．８１ｎｍ 降至５．０２ｎｍ。３００℃－ＤＵＶ處理的樣品與同等壓強下３００℃無ＵＶ處理和３５０℃退火處理的相比，薄膜的折射率增加并明顯地降低了其表面粗糙度，因此，ＤＵＶ輔助高壓退火處理能夠有效減少有機化合物的殘留，促進了成膜前驅基團的遷移，并形成更加致密的非晶ＩＧＺＯ薄膜。