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利用原子力顯微鏡和橢圓偏振光譜儀，研究了不同退火溫度下深紫外（ＤＵＶ）輔助高壓處理對(duì)溶液旋涂法制備的非晶ＩＧＺＯ薄膜微觀結(jié)構(gòu)與光學(xué)特性的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，通過ＤＵＶ輔助高壓退火處理，當(dāng)退火溫度從２１０℃升高至３００℃，薄膜的光學(xué)帶隙由２．９７ｅＶ 升至３．３２ｅＶ，而膜表面粗糙層從２２．８１ｎｍ 降至５．０２ｎｍ。３００℃－ＤＵＶ處理的樣品與同等壓強(qiáng)下３００℃無(wú)ＵＶ處理和３５０℃退火處理的相比，薄膜的折射率增加并明顯地降低了其表面粗糙度，因此，ＤＵＶ輔助高壓退火處理能夠有效減少有機(jī)化合物的殘留，促進(jìn)了成膜前驅(qū)基團(tuán)的遷移，并形成更加致密的非晶ＩＧＺＯ薄膜。