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當(dāng)前的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP) 磨損模型中大多數(shù)都缺少微觀試驗(yàn)數(shù)據(jù)的支持。為進(jìn)步揭示CMP中納米磨粒對材料表面的磨損機(jī)制,提出了采用原子力顯微鏡(AFM)來模擬CMP中的單個(gè)...