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當前的化學機械拋光(CMP) 磨損模型中大多數(shù)都缺少微觀試驗數(shù)據(jù)的支持。為進步揭示CMP中納米磨粒對材料表面的磨損機制,提出了采用原子力顯微鏡(AFM)來模擬CMP中的單個...

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作者

王春,安偉,趙永武

期刊

潤滑與密封

年份