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通過改進(jìn)的水浴自組裝技術(shù)，制備出由氧化石墨烯納米片組成的氧化石墨烯（Graphene oxide, GO）薄膜，對該薄膜進(jìn)行γ 射線輻照后采用掃描電子顯微鏡（SEM）、X 射線衍射光譜（XRD）對輻照前后的薄膜進(jìn)行表征，分析輻照對GO薄膜的改性作用。結(jié)果表明，輻照后GO薄膜的層間距由0.94 nm 減小到0.80 nm，薄膜中GO 納米片的平均厚度從1.69 nm 減小到0.86 nm，證明了γ 射線對GO 薄膜良好的還原效應(yīng)，使GO納米片的層間官能團減少并導(dǎo)致了層間距和厚度減小。本文還探討了γ 射線輻照對GO 薄膜的還原機理。