論文基于嚴格耦合波理論(Rigorous Coupled-Wave Analysis,RCWA),并采用遺傳算法進行優(yōu)化,設計并制作了一種具有高衍射效率的亞波長結(jié)構(gòu)Dammann光柵。光柵的分束比為1×11,最小特征尺寸為0.95μm,衍射效率設計值達到95%,優(yōu)于傳統(tǒng)Dammann光柵約15%,且均勻性設計值小于2%。論文采用電子束光刻直寫技術(shù)和反應離子刻蝕技術(shù)在石英基底上制作出亞波長結(jié)構(gòu)圖形。實驗結(jié)果表明,電子束掃描曝光可以獲得納米級的圖形分辨率。對石英基底的反應離子刻蝕中,射頻功率、工作氣壓及氣體流量均對刻蝕速率和柵線的表面形貌產(chǎn)生不同程度的影響,論文主要針對該問題進行了討論。同時,論文也對電子束光刻直寫過程中產(chǎn)生的線寬誤差因素進行了分析。
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作者
冷雁冰;董連和;孫艷軍.
期刊
紅外與激光工程,43:3,812-817(2014)
年份