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論文基于嚴(yán)格耦合波理論(Rigorous Coupled-Wave Analysis,RCWA),并采用遺傳算法進(jìn)行優(yōu)化,設(shè)計(jì)并制作了一種具有高衍射效率的亞波長結(jié)構(gòu)Dammann光柵。光柵的分束比為1×11,最小特征尺寸為0.95μm,衍射效率設(shè)計(jì)值達(dá)到95%,優(yōu)于傳統(tǒng)Dammann光柵約15%,且均勻性設(shè)計(jì)值小于2%。論文采用電子束光刻直寫技術(shù)和反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)在石英基底上制作出亞波長結(jié)構(gòu)圖形。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,電子束掃描曝光可以獲得納米級的圖形分辨率。對石英基底的反應(yīng)離子刻蝕中,射頻功率、工作氣壓及氣體流量均對刻蝕速率和柵線的表面形貌產(chǎn)生不同程度的影響,論文主要針對該問題進(jìn)行了討論。同時(shí),論文也對電子束光刻直寫過程中產(chǎn)生的線寬誤差因素進(jìn)行了分析。