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?用常壓金屬有機化學氣相外延方法在Ni／Si（111）模板上生長ZnO薄膜，研究了ZnO低溫緩沖層的厚度（50h，300h）對薄膜性能的影響。采用原子力顯微鏡，X射線衍射和光致發(fā)光光譜儀對這些樣品進行分析。結(jié)果表明：緩沖層的厚度對zno外延薄膜的表面形貌、晶體結(jié)構及發(fā)光性能都有較大影響。在50h～100A低溫緩沖層上生長的ZnO外延膜，晶粒尺寸大小均勻，發(fā)光和結(jié)晶性能良好。