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使用磁控濺射制備Ag和SiO2相間的多層膜，系統(tǒng)研究了退火對(duì)復(fù)合薄膜形貌和光學(xué)特性的影 響。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)退火時(shí)間越長(zhǎng)，Ag顆粒直徑越大，吸收譜峰位相對(duì)較短的退火時(shí)間有紅移現(xiàn)象，并且吸收譜峰比較寬，比較強(qiáng)。在退火時(shí)間足夠長(zhǎng)的情況下，隨著每 層SiO2厚度的減小，Ag顆粒直徑也減小，吸收峰強(qiáng)度變小，峰寬變窄，峰位有藍(lán)移現(xiàn)象。我們做了大量實(shí)驗(yàn)，總結(jié)出了退火時(shí)間的計(jì)算公式。薄膜經(jīng)過(guò)合適的 退火時(shí)間，放置20d后發(fā)現(xiàn)出現(xiàn)小平面結(jié)構(gòu)，Ag顆粒分裂，吸收譜峰寬變窄，吸收峰位藍(lán)移。不同退火溫度下的吸收譜表明500℃是一個(gè)比較理想的退火溫 度。