利用射頻磁控濺射在BK-7玻璃基片上沉積摻鋁氧化鋅薄膜,研究濺射功率對(duì)薄膜光電性能的影響.當(dāng)濺射功率從250 W增加到400 W時(shí),X射線衍射的結(jié)果發(fā)現(xiàn),250 W制備的薄膜只有(002)衍射峰,而300 W以上的樣品則出現(xiàn)了新的(101)衍射峰;而且隨著濺射功率的增加,(002)峰的強(qiáng)度減弱,(101)峰的強(qiáng)度增強(qiáng).薄膜的厚度隨濺射功率的增加而變厚,電阻率隨濺射功率的增加而減小,從200 W功率時(shí)的24.6×10-4Ωcm減小到400 W時(shí)的7.2×10-4Ωcm.樣品在可見(jiàn)光區(qū)域的平均光學(xué)透射率都大于85%,其光學(xué)帶隙隨載流子濃度的減小而減小.
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作者
范麗琴,裴瑜,林麗梅,詹仁輝,賴發(fā)春
期刊
福建師范大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)
年份