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利用射頻磁控濺射在BK-7玻璃基片上沉積摻鋁氧化鋅薄膜,研究濺射功率對薄膜光電性能的影響.當濺射功率從250 W增加到400 W時,X射線衍射的結果發(fā)現,250 W制備的薄膜只有(002)衍射峰,而300 W以上的樣品則出現了新的(101)衍射峰;而且隨著濺射功率的增加,(002)峰的強度減弱,(101)峰的強度增強.薄膜的厚度隨濺射功率的增加而變厚,電阻率隨濺射功率的增加而減小,從200 W功率時的24.6×10-4Ωcm減小到400 W時的7.2×10-4Ωcm.樣品在可見光區(qū)域的平均光學透射率都大于85%,其光學帶隙隨載流子濃度的減小而減小.