利用脈沖激光沉積法在ITO 玻璃襯底上制備了NiO薄膜，利用XRD、AFM 對(duì)樣品的晶體結(jié)構(gòu)和表面形貌進(jìn)行了表征，并對(duì)其透射光譜進(jìn)行了測(cè)試，研究了襯底溫度及脈沖激光能量對(duì)所制NiO 薄膜的結(jié)構(gòu)、形貌和光學(xué)特性的影響。結(jié)果表明：在脈沖激光能量為180 mJ、襯底溫度為600~700 ℃條件下所制備的樣品為沿（111）晶面擇優(yōu)取向生長(zhǎng)的多晶NiO 薄膜，薄膜結(jié)晶質(zhì)量良好，表面顆粒排列均勻，可見光透射率較高，禁帶寬度為3.40~3.47 eV。
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作者
李琳;董燕;余亮;文亞南;梁齊
期刊
電子元件與材料
年份