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利用脈沖激光沉積法在ITO 玻璃襯底上制備了NiO薄膜，利用XRD、AFM 對樣品的晶體結構和表面形貌進行了表征，并對其透射光譜進行了測試，研究了襯底溫度及脈沖激光能量對所制NiO 薄膜的結構、形貌和光學特性的影響。結果表明：在脈沖激光能量為180 mJ、襯底溫度為600~700 ℃條件下所制備的樣品為沿（111）晶面擇優(yōu)取向生長的多晶NiO 薄膜，薄膜結晶質(zhì)量良好，表面顆粒排列均勻，可見光透射率較高，禁帶寬度為3.40~3.47 eV。
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