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為實(shí)現(xiàn)工程中對(duì)油膜厚度無(wú)損檢測(cè)的目的，需要在鋼表面制備AlN 壓電薄膜，作為聲發(fā)射接收元件。采用直流反應(yīng)磁控濺射技術(shù)，利用Al 作為過(guò)渡基層，在不銹鋼上沉積AlN 薄膜。研究了改變?yōu)R射功率、氮?dú)饬髁勘鹊裙に嚄l件對(duì)AlN 薄膜生長(zhǎng)的影響。利用X 射線衍射儀( XＲD) 和原子力顯微鏡( AFM) 對(duì)薄膜取向性及表面質(zhì)量做了表征。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，濺射功率的增加有利于AlN 薄膜的擇優(yōu)取向生長(zhǎng)，但過(guò)高的功率會(huì)影響薄膜表面的粗糙度; 氮?dú)饬髁勘冗^(guò)低或過(guò)高都會(huì)影響AlN 的生長(zhǎng)，應(yīng)將其控制在30%～ 70%的范圍為宜。