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采用磁控濺射法在滌綸水刺非織造布表面沉積納米結(jié)構(gòu)Ｃｕ單層膜和ＺｎＯ／Ｃｕ多層膜，利用原子力顯微鏡（ＡＦＭ）對薄膜表面形貌進(jìn)行分析，并利用四探針測試儀和矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀對樣品的電學(xué)性能進(jìn)行了測試。結(jié)果表明，在ＺｎＯ薄膜表面生長的Ｃｕ膜比在ＰＥＴ織物表面生長的Ｃｕ膜的均勻性、電學(xué)性能要好；在Ｃｕ鍍膜時間相同的情況下，隨著ＺｎＯ鍍膜時間的增加，多層膜ＺｎＯ／Ｃｕ的電學(xué)性能先提高后降低，當(dāng)ＺｎＯ鍍膜時間為２０ｍｉｎ時，多層膜的電學(xué)性能達(dá)到最好；在ＺｎＯ鍍膜時間相同的情況下，隨著Ｃｕ鍍膜時間的增加，多層膜ＺｎＯ／Ｃｕ的電學(xué)性能和織物表面顆粒均勻性經(jīng)歷了先提高、最后趨于穩(wěn)定的過程，屏蔽效能最大平均值達(dá)到５６ｄＢ。