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利用AFM探針刻畫方式可進(jìn)行MEMS掩膜圖案等的制備與修復(fù)研究,本文針對(duì)軟朔性材料,建立了AFM探針刻畫時(shí)的刻痕尺寸模型,依據(jù)該模型及探針的實(shí)際 受力與位置信息,可得到刻...

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作者

田孝軍,王越超,席寧,董再勵(lì)

期刊

儀器儀表學(xué)報(bào)

年份