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采用電子束蒸發(fā)技術(shù)在TiO2 緩沖層上沉積了ZnO薄膜,研究了不同的退火溫度對薄膜晶化質(zhì)量及發(fā)光性質(zhì)的影響.利用X射線衍射儀和掃描探針顯微鏡分析了薄膜樣品的結(jié)構(gòu)性質(zhì),...