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本文采用射頻磁控濺射法在不同 氧氬比下制備氧化鉿涂層。研究了涂層的沉積速率、表面形貌、微觀結(jié)構(gòu)和電絕緣特性隨氧氬比的變化。結(jié)果表明用此方法在低活化馬氏體鋼上制備的氧化鉿涂層表 面致密、無(wú)明顯孔洞;低活化馬氏體鋼為襯底時(shí)涂層較易結(jié)晶為以單斜相為主的晶體結(jié)構(gòu);且涂層的絕緣特性受氧氬比影響較大,氧氬比為0.7和1.2下制備的 涂層擊穿場(chǎng)強(qiáng)小于1MV/cm,電絕緣特性較差,在較低氧氬比下制備的涂層有較理想的絕緣性能