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利用電子束真空蒸發(fā)方法制備了厚度１００ｎｍ的Ｎｉ８０Ｆｅ２０薄膜，研究了磁場退火溫度對薄膜磁疇結(jié)構(gòu)
的影響。利用振動樣品磁強(qiáng)計測量了磁滯回線，利用磁力顯微鏡觀察了薄膜的表面形貌和磁疇結(jié)構(gòu)。結(jié)果表明：磁疇結(jié)構(gòu)為明顯的條狀疇，磁疇寬度最大值約為８６０ｎｍ；隨著磁場退火溫度的升高，磁疇取向趨于沿垂直膜面方向，退火溫度為６００℃時，沿著主疇的疇壁形成了細(xì)小的橫向細(xì)疇結(jié)構(gòu)。