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采用超高真空反應射頻磁控濺射方法,利用高純Ti靶在光學玻璃基底上制備具有一定厚度的TiO2薄膜樣品.通過掃描探針顯微鏡對其表面形貌進行觀測和分析,利用XRD初步探討了退火對薄膜結(jié)構(gòu)及其透射率的影響,并研究了不同O2/Ar流量比對薄膜沉積速率的影響.