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用直流磁控濺射法在玻璃基片上先沉積TiO2緩沖層，再用直流/ 射頻反應(yīng)磁控共濺射法制備摻鎢VOX 薄膜，然后在氮?dú)庵型嘶?。用X 射線衍射、原子力顯微鏡、紫外可見(jiàn)光分光光度計(jì)、紅外光譜儀等對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)、表面形貌、光透過(guò)率等進(jìn)行測(cè)試分析。結(jié)果表明：在濺射氣壓為1 Pa，氧氬氣體比例為1：4，Ti 靶采用100 W 直流電源時(shí)，所制備的TiO2
緩沖層上的摻鎢VOX薄膜致密，晶粒大小均勻。摻鎢VOX薄膜樣品的相變溫度降低至35℃，可見(jiàn)光透過(guò)率較高，對(duì)紅外光的屏蔽效果明顯。