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室溫條件下采用直流磁控反應(yīng)濺射技術(shù)在滌綸紡黏非織造織物表面生長二氧化鈦( TiO2) 薄膜。采用X射線光電子能譜儀、X 射線衍射儀和原子力顯微鏡對不同濺射功率條件下所制備TiO2薄膜的結(jié)構(gòu)和表面形貌進(jìn)行表征，研究濺射功率對薄膜沉積速率以及沉積納米TiO2織物光催化性能的影響。實驗表明: 在一定范圍內(nèi)，濺射功率對沉積薄膜的化學(xué)結(jié)構(gòu)影響不大; 濺射功率增加，薄膜的沉積速率和濺射效率提高，薄膜均勻性、致密性增加，沉積納米TiO2織物的光催化性能提高，但過高的濺射功率使靶材出現(xiàn)過溫，不僅使薄膜沉積速率降低，均勻性下降，而且易損傷靶材