?采用射頻磁控濺射技術在聚酰亞胺柔性襯底上制備硅基薄膜太陽能電池用鋁背電極,研究了不同濺射功率和工作氣壓條件對鋁電極薄膜性能的影響.利用原子力顯微鏡分析表征了薄膜的表面形貌和粗糙度,薄膜的電學性能和光學性能分別采用四探針測量儀和紫外可見近紅外分光光度計進行分析表征.測試結果表明：隨著濺射功率的增加,薄膜表面均方根粗糙度迅速增加,漫反射率提高,薄膜的最高平均漫反射率高達70%;同時薄膜電阻率降低.工作氣壓為0.5Pa時所制備的薄膜具有較低的電阻率和良好的漫反射率.綜合考慮薄膜的電學性能與光學性能,薄膜的最佳制備條件為濺射功率300～450W、工作氣壓0.5Pa.
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作者
岳紅云;吳愛民;馮煜東;胡娟;張學宇;李廷舉
期刊
大連理工大學學報
年份