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采用自制的液位沉降制備薄膜裝置在普通玻璃襯底上沉積了ITO薄膜,并對(duì)實(shí)驗(yàn)條件進(jìn)行正交設(shè)計(jì)以考察制備ITO薄膜的最優(yōu)條件。結(jié)果表明,采用液位沉降法成功地制備出ITO薄膜。該裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便。影響ITO薄膜光電性能的主要因素是鍍膜層數(shù),在進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)中,制備ITO薄膜的優(yōu)化條件為:注射回抽速度為2.5cm/min,膜層數(shù)為20層,裝置傾斜角度為30°,在300℃下預(yù)處理5min,500℃下退火處理2h,得到的薄膜的透光率為88.3%,方塊電阻為970Ω/□。