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為改善304不銹鋼的性能,擴(kuò)展其應(yīng)用范圍,采用磁控濺射技術(shù)在不同濺射靶功率下激發(fā)高純石墨靶在 p(100)單晶硅和304不銹鋼表面沉積類金剛石碳薄膜。文章對(duì)所制備的系列類金剛石碳薄膜作了 Raman 光譜、X 射線衍射(XRD)、原子力顯微鏡(AFM)、斷口形貌的場(chǎng)發(fā)射電鏡(FESEM)表征,并評(píng)價(jià)了其納米硬度與摩擦磨損行為。結(jié)果表明：所制備的類金剛石碳薄膜為典型的非晶態(tài)微結(jié)構(gòu)；隨著靶功率的增大,類金剛石碳薄膜的 sp3鍵含量先增多后減少,表面粗糙度先降低后升高,硬度與彈性模量先升高后降低；靶功率200 W 時(shí)類金剛石碳薄膜取得最優(yōu)性能,納米硬度為11.4 GPa,彈性模量為129.3 GPa,摩擦系數(shù)為0.17,磨損率為5.2×10-7 mm3(N·m)-1。