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采 用 XRD, SEM, AFM 等 詳細(xì) 研 究 了朱化 及 氮 離子注入對(duì) 坑膜 的 表 面 形 貌 和 相 結(jié) 構(gòu) 的 影 響. 結(jié) 果 表 明, 在 單晶硅及拋光 Mo?基片上制備的坑膜均具有 (002) 晶面擇優(yōu)取向; 坑膜朱化后表面會(huì)出現(xiàn)大量孔洞, 朱化后朱化 坑 (ScD2 ) 晶粒長(zhǎng)大, 但內(nèi)部會(huì)殘留少量未完全朱化反應(yīng)的晶粒尺寸較小的 ScD0.33 /Sc?晶粒; 氮離子注入對(duì)坑及朱化 坑的表面形貌沒(méi)有明顯影響, 離子注入的氮將在坑及朱化坑晶格中聚集成泡, 導(dǎo)致氮離子注入層中的坑及朱化坑衍 射峰向低角度偏移, 并且氮泡的聚集具有擇優(yōu)取向性.
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