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近因微奈米科技的快速發(fā)展，微結(jié)構(gòu)加工尺度之要求已達(dá)到數(shù)十奈米的等級(jí)，致使傳統(tǒng)半導(dǎo)體微影加工面臨到加工線寬無法再降低及良率無法提升的瓶頸，然而原子力顯微鏡顯微術(shù)卻非常適合做奈米加工，同時(shí)可省去半導(dǎo)體製程製作光罩的步驟 |
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作者
黃韋強(qiáng),于劍平,陳毅謙,柏立文.
期刊
中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)第二十四屆全國(guó)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文集(臺(tái)灣)
年份