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采用射頻磁控濺射法在單晶硅表面制備了類金剛石薄膜;對(duì)薄膜的電阻率進(jìn)行了測(cè)量,研究了薄膜的濺射工藝參數(shù),采用拉曼光譜、原子力顯微鏡、掃描電鏡分析了薄膜的...

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作者

趙之明,李合琴,顧金寶

期刊

真空

年份