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利用微波ECR加射頻功率源等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù),以CH4 為碳源氣體,Ar氣為稀釋氣體,在硅片(100)上制備了類金剛石薄膜.Raman光譜證實(shí)了薄膜的類金剛石特性;傅立葉變換紅外光譜表明薄膜中存在明顯 的C-H鍵結(jié)構(gòu).采用AFM觀察了表面形貌,均方根粗糙度大約為1.489nm,表明薄膜表面比較光滑.最后對(duì)其進(jìn)行了摩擦性能測(cè)試,薄膜的平均摩擦系數(shù) 為0.102.

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作者

桑利軍, 陳強(qiáng)

期刊

包裝工程

年份