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利用射頻磁控濺射在石英基片上沉積摻鋁氧化鋅薄膜,研究了襯底溫度對薄膜結(jié)構(gòu)和光電性能的影響.當給襯底加熱時,X射線衍射觀測(002)峰相對強度明顯增強.在襯底溫度250℃下制備的薄膜的晶粒尺寸最大,為24.9nm,表面粗糙度最小,為8.1nm,表明在襯底溫度250℃下制備的薄膜的結(jié)晶效果最好.襯底溫度從30℃升高到250℃,薄膜的電阻率相應(yīng)地從14.35×10-4Ω·cm降低到7.18×10-4Ω·cm,隨著襯底溫度的升高,電阻率反而增大.所有樣品在可見光區(qū)的平均光學(xué)透射率都大于85%.引入品質(zhì)因子分析薄膜的光電性能,當襯底溫度為250℃時,品質(zhì)因子最大為16.15×10-3Ω-1,其光電性能最好.