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文章采用直流磁控濺射法在玻璃襯底上制備了V2O5/V/V2O5復(fù)合膜,通過改變中間層釩的濺射時間,制備了3組薄膜。所有薄膜均在450℃空氣氣氛中退火60min。用四探針測試儀測試了薄膜的電學(xué)性能,用X射線衍射儀對薄膜的結(jié)構(gòu)組分進行分析。實驗結(jié)果表明,當(dāng)V層濺射時間為25min時,經(jīng)450℃退火后的薄膜方塊電阻為38.5kΩ,電阻溫度系數(shù)為-0.021 8K-1,在700~1 400nm波段紅外吸光度均在0.6以上,符合非致冷微測輻射熱計的應(yīng)用要求。

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作者

顏毓雷;李合琴;喬愷;張學(xué)科;周矗;陶磊.

期刊

合肥工業(yè)大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版),37:6,670-673,709(2014)

年份