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采用自制的液位沉降制備薄膜裝置在普通玻璃襯底上沉積了ITO薄膜,并對實驗條件進行正交設計以考察制備ITO薄膜的最優(yōu)條件。結果表明,采用液位沉降法成功地制備出ITO薄膜。該裝置結構簡單、操作方便。影響ITO薄膜光電性能的主要因素是鍍膜層數,在進行的實驗中,制備ITO薄膜的優(yōu)化條件為:注射回抽速度為2.5cm/min,膜層數為20層,裝置傾斜角度為30°,在300℃下預處理5min,500℃下退火處理2h,得到的薄膜的透光率為88.3%,方塊電阻為970Ω/□。