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為了研究拋光工藝參數(shù)(拋光壓力、拋光臺轉(zhuǎn)速、拋光液流量)對精細霧化拋光TFT-LCD玻璃基板的影響,實現(xiàn)對玻璃基板的高效、高質(zhì)量加工,采用正交試驗方法對玻璃基板進行霧化拋光,以材料去除率(MRR)和表面粗糙度(Ra)為評價指標,根據(jù)實驗結(jié)果得到最優(yōu)的工藝參數(shù)組合,并將傳統(tǒng)拋光和霧化拋光進行了對比。結(jié)果表明:當壓力為0.055 MPa,拋光臺轉(zhuǎn)速為65r/min,拋光液流量為8.3mL/min時,霧化拋光的材料去除率為219nm/min,表面粗糙度Ra為1.1nm,光學透過率≥92.6%。在相同的試驗條件下,傳統(tǒng)拋光的去除率和表面粗糙度分別為335nm/min和1.2nm,兩種方法的拋光效果相近,但霧化方法拋光液用量僅為傳統(tǒng)的1/10。