基于溶液工藝和水熱處理制備了ZnO薄膜.采用橢圓偏振光譜分析儀,原子力顯微鏡,X射線衍射儀研究和分析了水熱處理溫度對(duì)薄膜的微觀形貌,光學(xué)特性,晶體結(jié)構(gòu)的影響.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,水熱處理溫度由110℃升高到130℃,薄膜光學(xué)帶隙由3.19eV增大到3.31eV,而薄膜表面粗糙度從19.3nm降到12.9nm.然而,當(dāng)處理溫度超過140℃后,與130℃下處理的膜相比質(zhì)量顯著劣化.此外,130℃下水熱處理的膜與500℃下高溫退火的膜對(duì)比表明水熱法有相似的光學(xué)特性,同時(shí),XRD分析表明水熱處理能改善晶體特性.證明了利用水熱處理能夠極大地降低溶液法制備ZnO薄膜所需的退火溫度.
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作者
錢峰;劉泉水;韓先虎;鐘傳杰.
期刊
材料科學(xué)與工程學(xué)報(bào),33:4,570-575(2015)
年份