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以混合磨料氧化鈰和氧化硅、pH調(diào)節(jié)劑羥乙基乙二胺、表面活性劑聚乙烯吡咯烷酮為原料配制拋光液,通過對TFT-LCD玻璃基板進行超聲波精細霧化化學(xué)機械拋光的正交試驗研究,優(yōu)化了拋光液的成分,并對傳統(tǒng)拋光和霧化拋光進行了對比。結(jié)果表明:當(dāng)氧化鈰和氧化硅的質(zhì)量分數(shù)分別為4%和10%、pH值為11、表面活性劑的質(zhì)量分數(shù)為1.5%時,材料去除率MRR為215nm/min,表面粗糙度Ra為1.6nm。在相同的試驗條件下,傳統(tǒng)拋光的去除率和表面粗糙度分別為304nm/min和1.5nm;雖然霧化拋光去除率略低于傳統(tǒng)拋光,但拋光液用量僅為傳統(tǒng)的1/8。