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在氣壓為1Pa和2Pa的情況下,文章采用直流磁控濺射法分別在Si(100)、Al2O3陶瓷、普通載玻片3種襯底上生長TiO2薄膜;利用原子力顯微鏡對TiO2薄膜的表面形貌進行觀察,研究了壓強及襯底對薄膜表面形貌的影響。并研究表明,在Si(100)襯底上生長的TiO2薄膜,氣壓為2Pa時比1Pa時表面粗糙度要大;在相同濺射氣壓下,Si(100)襯底上得到的TiO2薄膜質(zhì)量明顯優(yōu)于Al2O3陶瓷和普通載玻片襯底上的