在氣壓為1Pa和2Pa的情況下,文章采用直流磁控濺射法分別在Si(100)、Al2O3陶瓷、普通載玻片3種襯底上生長(zhǎng)TiO2薄膜;利用原子力顯微鏡對(duì)TiO2薄膜的表面形貌進(jìn)行觀察,研究了壓強(qiáng)及襯底對(duì)薄膜表面形貌的影響。并研究表明,在Si(100)襯底上生長(zhǎng)的TiO2薄膜,氣壓為2Pa時(shí)比1Pa時(shí)表面粗糙度要大;在相同濺射氣壓下,Si(100)襯底上得到的TiO2薄膜質(zhì)量明顯優(yōu)于Al2O3陶瓷和普通載玻片襯底上的
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作者
徐開松;何曉雄;潘訓(xùn)剛
期刊
合肥工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)
年份