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本文研究了過氧化氫(H2O2)拋光液體系中金屬釕的化學機械拋光行為,采用電化學分析方法和X射線光電子能譜儀(XPS)分析了氧化劑和絡合劑對腐蝕效果的影響,利用原子力顯微鏡(AFM)觀察拋光表面的微觀形貌.結果表明:在過氧化氫拋光液體系中,金屬釕表面鈍化膜的致密度和厚度與醋酸(CH3COOH)和H2O2的濃度有關.拋光液中醋酸主要通過促進陽極反應的進行從而增強拋光液對金屬釕的化學作用,CH3COOH作為絡合劑比三乙醇胺(TEA)或酒石酸(C4H6O6)得到的拋光速率更高.低濃度H2O2通過增強拋光液對金屬釕的化學腐蝕,拋光速率增大,較高濃度H2O2可能通過在金屬表面形成較厚的氧化膜,拋光速率下降.XPS圖譜說明釕片浸泡在含醋酸介質過氧化氫體系拋光液后,釕、氧原子相對含量之比約為2∶3,而且金屬釕被氧化到四價和八價,這可能是因為金屬釕表面生成RuO2和RuO4.拋光后的金屬釕表面在5μm×5μm范圍內平均粗糙度Sa由拋光前的33 nm降至6.99 nm

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作者

儲向峰;王婕;董永平;喬紅斌;張王兵

期刊

摩擦學學報

年份