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熱蒸發(fā)制備Zn摻雜SnS2薄膜,研究不同Zn含量及熱處理?xiàng)l件對(duì)薄膜的物相結(jié)構(gòu)、表面形貌和光電性能的影響。實(shí)驗(yàn)給出用Sn∶S=1∶1.08(wt)混合粉末沉積的薄膜,經(jīng)380℃、15min熱處理后得到簡單正交晶系的SnS2薄膜;9(wt%)摻Zn后的薄膜熱處理?xiàng)l件為370℃、20min。Sn、S和Zn分別以正4價(jià)、負(fù)2價(jià)和正2價(jià)存在于薄膜中。SnS2薄膜的直接光學(xué)帶隙為2.12eV,摻Zn后為2.07eV;薄膜的電阻率從未摻Zn時(shí)的4.97×102Ω.cm降低到2.0Ω.cm,下降了兩個(gè)數(shù)量級(jí),所有SnS2薄膜導(dǎo)電類型均為N型。

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作者

康海濤,李健,柴燕華.

期刊

材料科學(xué)與工程學(xué)報(bào),31,4,562-567(2013)

年份