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用磁控濺射法在奧氏體不銹鋼基片上制備了SiC 單層膜和Ti /TiN 雙層膜以及Ti /TiN / SiC 功能梯度薄膜。采用XRD 和顯微硬度計(jì)對(duì)薄膜的結(jié)晶質(zhì)量和硬度進(jìn)行表征; 用AFM 和SEM 對(duì)薄膜的表面和截面形貌進(jìn)行了表征。結(jié)果表明: Ti /TiN 雙層
膜在氬氮流量比為15∶ 15 時(shí)，薄膜的結(jié)晶質(zhì)量最好，硬度最高，達(dá)到15. 6 GPa，最適合作為鋼基SiC 薄膜的緩沖層。另外，功能梯度SiC 薄膜比SiC 單層膜的結(jié)晶質(zhì)量好; 不同退火溫度下功能梯度SiC 薄膜的硬度高于SiC 單層膜，同時(shí)功能梯度SiC 薄膜的表面結(jié)晶質(zhì)量也優(yōu)于SiC 單層膜