通過建立界面摩擦系統(tǒng)動(dòng)力學(xué)模型,并利用原子力顯微鏡測(cè)試云母、石英以及單晶硅片界面摩擦條件下的黏滑行為特征,探討摩擦系統(tǒng)內(nèi)外因素對(duì)黏滑頻率、幅值的影響。結(jié)果表明：同一實(shí)驗(yàn)條件下,不同材料的黏滑頻率與黏滑波動(dòng)幅值不同;緩慢滑動(dòng)時(shí),黏滑的頻率主要取決于表面勢(shì)場(chǎng)的頻率,波動(dòng)幅值取決于表面勢(shì)場(chǎng)強(qiáng)度,隨著滑動(dòng)速度逐漸增大,黏滑頻率同時(shí)取決于表面勢(shì)場(chǎng)頻率和探針系統(tǒng)的固有頻率,波動(dòng)幅值取決于表面勢(shì)場(chǎng)強(qiáng)度和探針系統(tǒng)結(jié)構(gòu);滑動(dòng)速度較大時(shí),黏滑頻率及波動(dòng)幅值主要取決于探針系統(tǒng),且隨著滑動(dòng)速度增大,波動(dòng)幅值逐漸減小
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作者
龔中良
期刊
潤(rùn)滑與密封
年份