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采用卷繞型磁控濺射設(shè)備在滌綸(PET)針刺氈表面沉積了納米結(jié)構(gòu)Cu薄膜,利用X射線衍射儀(XRD)對薄膜的組分和結(jié)晶狀態(tài)進行了分析,用原子力顯微鏡(AFM)分析了不同濺射工藝參數(shù)對納米Cu薄膜微觀結(jié)構(gòu)和顆粒直徑的影響,并較為系統(tǒng)地分析了濺射功率、工作氣壓和沉積時間對鍍銅PET針刺氈導(dǎo)電性能的影響。結(jié)果表明,增大濺射功率,鍍銅PET針刺氈導(dǎo)電性和Cu膜均勻性變好,但應(yīng)控制在6kW以下;隨工作氣壓的增大,薄膜方塊電阻先減小后增大,薄膜厚度更加均勻;隨著沉積時間的延長,Cu粒子的直徑增大,Cu膜的導(dǎo)電性和均勻性明顯變好。