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CSPM5500系列掃描探針顯微鏡納米加工系統(tǒng)


精確的路徑位移定位

自定義圖形載入功能

可以在納米級(jí)尺度上加工任意需要的複雜結(jié)構(gòu)


  圖形刻蝕模式  
 

??? 利用電致刻蝕技術(shù),可以在納米級(jí)尺度上加工任意需要的複雜結(jié)構(gòu)。???

??? 電致刻蝕主要由一個(gè)施加在樣品與表面間的脈衝電壓引起,當(dāng)所加電壓超過(guò)閾值時(shí),暴露在電場(chǎng)下的樣品表面會(huì)發(fā)生化學(xué)或物理變化。這些變化或者可逆或者不可逆,其機(jī)理可以直接歸因於電場(chǎng)效應(yīng),高度局域化的強(qiáng)電場(chǎng)可以誘導(dǎo)原子的場(chǎng)蒸發(fā),也可以由電流焦耳熱或原子電遷移引起樣品表面的變化。通過(guò)控制脈衝寬度和脈幅可以限制刻蝕表面的橫向解析度,這些變化通常不僅表現(xiàn)在表面形貌上,通過(guò)檢測(cè)其導(dǎo)電性、dI/dS、dI/dV、摩擦力還可以分辨出襯底的修飾情況。


  壓痕/機(jī)械刻畫(huà) 
 

??? 操縱微探針以可控的作用力對(duì)樣品表面進(jìn)行局域施壓,使樣品發(fā)生彈性/塑性形變;也可在施壓的同時(shí),控制探針以一定的路徑和速度在樣品運(yùn)動(dòng),對(duì)樣品進(jìn)行機(jī)械刻畫(huà)。

??? 基於掃描探針顯微鏡(SPM)系統(tǒng)的壓痕/機(jī)械刻畫(huà)功能,為在納米尺度上評(píng)價(jià)材料的機(jī)械和運(yùn)動(dòng)性能,或在樣品表面構(gòu)建特定的納米結(jié)構(gòu)提供了一種方便實(shí)用的研究手段。

 
  向量掃描模式  
 

???

??? 系統(tǒng)提供一個(gè)向量腳本編譯器,允許用戶任意指定掃描方向、距離、速度及加工參數(shù)(如作用力、電流、電壓等),直接操縱探針運(yùn)動(dòng),同時(shí)靈活測(cè)定各種信號(hào)和資料。

 
  DPN浸潤(rùn)筆模式  
 

??? DPN(Dip-Pen Nanolithography)浸潤(rùn)筆利用已作過(guò)分子修飾的探針,通過(guò)控制探針與樣品間的相互作用條件,來(lái)實(shí)現(xiàn)探針針尖到樣品表面的分子傳輸。

??? DPN實(shí)際上是一種簡(jiǎn)便的從探針針尖到樣品表面的輸運(yùn)分子的方法,其解析度可媲美電子束刻蝕等方法,對(duì)納米器件的功能化更為有用。

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