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?在玻璃基片上直流磁控濺射沉積氧化鉍薄膜,基片溫度從室溫增加到300℃并保持其它沉積條件 一致,研究基片溫度對薄膜光學(xué)性能的影響.樣品的晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌和透射光譜分別用X射線衍射儀、原子力顯微鏡和分光光度計進(jìn)行測量.結(jié)果表明,隨著基 片溫度的增加,樣品中Bi2O3的（120）衍射峰強(qiáng)度增強(qiáng),表面顆粒直徑逐漸減小;基片溫度為250,300℃樣品出現(xiàn)了Bi2O2.75的（006） 衍射峰.采用擬合透射光譜數(shù)據(jù)的方法計算薄膜的折射率、消光系數(shù)及厚度,并求出光學(xué)帶隙.隨基片溫度的增加,氧化鉍薄膜的折射率減小,消光系數(shù)在 10-2~10-1數(shù)量級,光學(xué)帶隙在3.51~3.04 eV遞減.