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采用粉末靶射頻磁控濺射方法制備非晶Al2O3薄膜, 分析了濺射工藝參數(shù)對Al2O3薄膜微觀結(jié)構(gòu)、表面形貌、光學(xué)性能的影響規(guī)律及機理, 并探究其抗菌特性. 研究結(jié)果表明: 增加氧通量、降低濺射功率和縮短濺射時間均會減小非晶Al2O3薄膜顆粒度與粗糙度, 同時也降低薄膜的沉積速率; 并且, 氧通量的增加和濺射時間的縮短均會使非晶Al2O3薄膜禁帶寬度變寬(最大值可達4.21 eV)、透光率增大(超過90%); 光照條件下非晶Al2O3薄膜24 h 抗菌率最高可達98.6%, 體現(xiàn)出了較好的光催化抗菌性.