由于減反射薄膜的性能受制備工藝的影響很大,文章采用SiO2和TiO2作為低、高折射率膜料,采用磁控濺射法在玻璃基片上制備了多層減反射膜系,研究了制備工藝對薄膜性能的影響,從理論和實驗2個方面得出了制備的多層減反射膜系在450～625nm波段具有明顯的增透效果,在520nm處有98%的透過率
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作者
王曦雯;何曉雄;胡佳寶
期刊
合肥工業(yè)大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版
年份