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?采用射頻等離子體技術(shù)，以CH4和H2為反應(yīng)氣體，在單晶硅片和載玻玻璃片上成功制備出了高質(zhì)量的類金剛石薄膜．采用掃描電鏡、原子力顯微鏡、Raman光譜、紅外光譜、顯微硬度計(jì)表征了類金剛石薄膜的表面形貌、微觀結(jié)構(gòu)、光學(xué)性能和復(fù)合硬度．結(jié)果表明，制備出的類金剛石薄膜表面十分平整光滑，表面粗糙度極低，平均粗糙度Ra為0．492nm；薄膜中含有sp^2，sp^3雜化鍵，具有典型的類金剛石結(jié)構(gòu)特征；光學(xué)透過(guò)率比較高，薄膜的復(fù)合硬度可以高達(dá)507．3kgf／cm^2．