運(yùn)用射頻磁控濺射在非織造布基材上生長(zhǎng)ZnO納米結(jié)構(gòu)薄膜.用原 子力顯微鏡(AFM)分析了射頻磁控濺射工藝參數(shù)(功率、壓力、時(shí)間)對(duì)ZnO透明薄膜微結(jié)構(gòu)的影響,并用分光光度計(jì)分析了樣品的透光率.結(jié)果表明:隨著 沉積時(shí)間的延長(zhǎng),非織造布表面ZnO納米結(jié)構(gòu)薄膜的致密性、均勻性越來(lái)越好;較高的濺射功率加速了晶粒生長(zhǎng),但不易太大;過(guò)大的工作氣壓使ZnO顆粒形狀 逐漸變差;經(jīng)ZnO鍍層處理的非織造布對(duì)紫外光的吸收能力隨著鍍膜厚度的增加逐漸增強(qiáng).
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作者
鄧炳耀,晏雄,魏取福,徐文正
期刊
紡織學(xué)報(bào)
年份