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采用電解液成分逐漸加入法，在6種電解液中對ZAlSi12Cu2Mg1試樣進行微弧氧化處 理，研究電解液組成對微弧氧化陶瓷膜形成的影響，尋找合適的電解液組成。結(jié)果表明：電解液組成對陶瓷膜層的厚度、粗糙度、硬度、耐磨性、膜層微觀形貌及相 組成的影響很大，通過調(diào)節(jié)電解液成分，可獲得性能優(yōu)良的陶瓷膜。適宜的電解液組成 為：8g／LNaSiO3，1g／LNaOH，2g／LNa2WO4，0．5g／LNa2EDTA及10mL／L丙三醇。在此種電解液組成下，獲得的陶瓷 膜厚156μm，面粗糙度為259nm，顯微硬度達HV891。在干摩擦條件下，經(jīng)30min磨損后，其磨損僅為基體的13．29％。觀察膜層微觀形貌， 膜層均勻致密。XRD分析表明：氧化層中含有Al、莫來石、SiO2、d．Al2O3、y-Al2O3和WO3相。