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 利用電子束蒸鍍方法在單晶硅和石英玻璃上制備了摻不同Y2O3濃度的摻釔穩(wěn)定ZrO2薄膜( YSZ) ,用X 射線衍射、原子力顯微鏡、掃描電子顯微鏡和透射光譜測(cè)定薄膜的結(jié)構(gòu)、表面特性和光學(xué)性能,研究了退火對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能的影響。結(jié)果表明:一定濃度的Y2O3摻雜可以使ZrO2薄膜穩(wěn)定在四方相,退火顯著影響薄膜結(jié)構(gòu),隨著溫度的升高薄膜結(jié)構(gòu)依次經(jīng)歷由非晶到四方相再到四方和單斜混合相轉(zhuǎn)變;AFM分析顯示薄膜表面YSZ顆粒隨著退火溫度的升高逐漸增大,表面粗糙度相應(yīng)增大,晶粒大小計(jì)算表明,退火溫度的提高有助于薄膜的結(jié)晶化,退火溫度從400 ℃到1100 ℃變化范圍內(nèi)晶粒大小從15.6nm增大到46.3nm;同時(shí)利用納秒激光對(duì)薄膜進(jìn)行了破壞閾值測(cè)量,結(jié)果表明電子束蒸鍍制備YSZ薄膜是一種制備高抗激光損傷鍍層的有效方法

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作者

李朝陽(yáng);邢光建;楊永軍;趙儉;陳強(qiáng)

期刊

真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)

年份